化学气相沉积

(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种
更新时间:2019-11-01 13:54 浏览:166 关闭窗口 打印此页

  真空炉在使用中常遇见以下故障:(必须由相应技术人员处理)一.电器故障(一)温度异常,包括温度过高报警、或显示温度达不到设定值。温度过高报警故障解除方法:1.首先检查所在工作区温控器参数是否正常,参考其他正常使用中的温控器校对所有参数。2.根据电路图检查相应工作区的固态继电器输出端是否被击穿,具本方法:......

  在马弗炉领域中,对现有的燃烧方法进行分析和改进,对新的燃烧方法进行探讨和实验,以不断提高燃料利用率和燃烧设备的技术水平。燃烧是指燃料中的可燃成分(碳、氢、硫及碳氢化合物)与空气中的氧结合后,在一定温度下发生剧烈化学反应放出光和热的过程。完全燃烧是指燃料中的可燃成份,在空气供应量和供应方法都很合适......

  CVD的装置如图1所示,由气化部分、载气精练部分、反应部分和排除气体处理部分所构成。目前,正在开发批量生产的新装置。

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  应用流动层的CVD如图3所示,可以形成被覆粒子(例如,在UO2表面被覆SiC、C),应用等离子体的CVD同样也有可能在低温下析出,而且这种可能性正在进一步扩大

  分析实验室常用的高温炉有马弗炉、管式炉和高频炉。按发热元件不同又可将其分为电阻丝式、硅碳棒式及高频感应式等几种。高温炉用于灼烧试样、坩埚和沉淀,亦用于试样碱熔等操作。使用较广的是箱式电阻炉。箱式高温炉也叫马弗炉。电阻丝式马弗炉的发热元件为炉内的电阻丝,最高使用为1000℃,常用工作温度为950℃以下......

  CVD是在含有原料气体、通过反应产生的副生气体、载气等多成分系气相中进行的,因而,当被覆涂层时,在加热基体与流体的边界上形成扩散层,该层的存在,对于涂层的致密度有很大影响。图2所示是这种扩散层的示意图。这样,由许多化学分子形成的扩散层虽然存在,但其析出过程是复杂的。粉体合成时,核的生成与成长的控制是工艺的重点。

  CVD工艺大体分为二种:一种是使金属卤化物与含碳、氮、硼等的化合物进行气相反应;另一种是使加热基体表面的原料气体发生热分解。

  其技术特征在于:(1)高熔点物质能够在低温下合成;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层,而且可以在粉体表面涂层,等。特别是在低温下可以合成高熔点物质,在节能方面做出了贡献,作为一种新技术是大有前途的。

  例如,在1000℃左右可以合成a-Al2O3、SiC,而且正向更低温度发展。

  CVD是Chemical Vapor Deposition的简称,是指高温下的气相反应,例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术最初是作为涂层的手段而开发的,但目前,不只应用于耐热物质的涂层,而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等,是一个颇具特征的技术领域。

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