化学气相沉积

CVD(化学气象沉积系统)常用于表面材料生长、沉积
更新时间:2019-10-28 11:07 浏览:87 关闭窗口 打印此页

  该化学气相沉积设备采用双层壳体并带有风冷系统,使其炉体表面温度都小于55℃

  对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)

  化学气相沉积设备CVD1200C-II-SL 200D50-5Z 双温区滑轨式CVD系统由双温区滑轨炉、质子流量控制系统、真空系统三部分组成。双温区滑轨炉可移动并可实现快速升降温;PLC控制5路质子流量器,能够精确控制系统的供气;真空泵可实现对管式炉快速抽真空。CVD(化学气象沉积系统)常用于表面材料生长、沉积,是一款实验室常用设备技术参数

  当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击

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