化学气相沉积

化学气相沉积法(CVD)
更新时间:2019-11-26 15:02 浏览:129 关闭窗口 打印此页

  静压法是当前工业合成金刚石的主要的合成手段.合成工业用金刚石主要采用静压法中的静压触媒法.合成宝石级金刚石主要采用静压晶种触媒法生产.通过静压法中的直接变换法,纯净的多晶石墨棒可 ...

  在石墨材料表面涂覆碳化硅层而构成的一种复合材料。碳化硅层厚为1~1.5mm。...图1硅化石墨配偶环剖面图制法硅化石墨的生产方法有化学气相沉积法(CVD),化学气相反应法(CVR)及液硅渗透反应法等3种方法。化学气相沉积(CVD)法使含硅 ...

  纳米碳管的低温合成是纳米碳管合成的一个重要研究方向 .在众多的合成方法中 ,化学气相沉积法 ,特别是等离子体化学气相沉积法在纳米碳管的低温合成方面意义重大 .本研究利用溶胶 -凝 ...

  2009年06期MoS2纳米材料化学气相沉积法(CVD)先还原沉淀法后还原沉淀法水热法溶胶-凝胶法;

  研究了对碳分子筛的孔结构的控制,尤其是对微孔和中孔的控制。采用化学气相沉积法(Chemicalvapordeposition,简称CVD)实现对微孔结构控制,制备出孔径均一的碳分 ...

  以甲 烷 为 碳 源,金 属 镍 为 催 化 剂,采 用 化 学气相沉积法(CVD)在 有 序 宏 观 基 体 材 料 (SiO2 纤 维,Al2O3 纤维)上制备 出 纳 米 ...

  对化学合成MoS2纳米材料的工艺流程进行了研究,从技术、经济和环境保护等的角度评估了各种工艺流程。研究结果证明,化学气相沉积法(CVD流程)的工艺步骤最短、无过滤和干燥工序、[s ...

  对炭素纳米材料的合成方法做了简要介绍,其中包括化学气相沉积、燃烧法、乳液聚合以及电弧放电等方法。合成方法涉及有序化过程和软化学方法;它们不仅用于合成炭素纳米材料,而且也用于合成有 ...

  2006年05期碳纳米管(CNTs)储氢性能LaNi5合金化学气相沉积法(CVD法);

  2009年04期富勒烯炭纳米管石墨烯金刚石化学气相沉积法(CVD)含钼催化剂;

  以Sn和SnO为源材料,化学气相沉积法中通过控制反应物配比及载气中的氧含量等宏观实验条件,实现了SnO2一维纳米结构的控制生长,成功获得各种不同横向尺度的SnO2纳米线、纳米带以 ...

  本文综述了化学气相沉积(CVD)的发展和等离子体化学气相沉积(PCVD)的兴起。阐明了等离子体对化学气相沉积的增强作用及从70年代后期以来等离子体化学气相沉积法的进展和贡献,展望 ...

  研究了真空热处理对多壁碳纳米管(MWNTs)电化学储氢性能的影响.采用化学气相沉积法(CVD)制备碳纳米管,碳纳米管与LaNi5储氢合金按质量比1∶10混合,制作成CNTs-La ...

  介绍了化学气相沉积法(CVD)6.5%Si钢连续渗硅生产线及处理工艺进展状况,比较了6.5%Si与3%Si的磁性,简述硅钢原板的成分要求,添加Cr、Al对高频性能的影响,涂布绝缘 ...

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