化学气相沉积

等. 化学气相沉积热解碳的原位动力学研究[J]. 材料科学与工程学
更新时间:2019-11-09 17:38 浏览:83 关闭窗口 打印此页

  (3)合成反应法(synthesis):几种气体物质在生长区内反应生成所生长物质的过程,上述三种方法中,化学输运法一般用于块状晶体生长,分解反应法通常用于薄膜材料生长,合成反应法则两种情况都用。热化学气相沉积应用于半导体材料,如Si,Cae,GaAs,InP等各种氧化物和其它材料

  (2)热解法(pyrolysis):将含有构成薄膜元素的某种易挥发物质,输运到生长区,通过热分解反应生成所需物质,它的生长温度为1000-1050摄氏度。

  卢翠英, 成来飞, 张立同,等. 化学气相沉积热解碳的原位动力学研究[J]. 材料科学与工程学报, 2008, 25(6):843-846.

  金曾孙, 吕宪义, 曲承林,等. 用热解化学气相沉积方法合成金刚石[J]. 吉林大学学报:理学版, 1987(2).

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  闫桂沈, 郝志彪. 热解碳化学气相沉积中的多重定态和非平衡相变的研究[J]. 物理学报, 2002, 51(2):326-331.

  (1)化学输运法(chemical t ransport):构成薄膜物质在源区与另一种固体或液体物质反应生成气体.然后输运到一定温度下的生长区,通过相反的热反应生成所需材料,正反应为输运过程的热反应,逆反应为晶体生长过程的热反应。

  (1)所有组织的金刚石薄膜是由金刚石结构的晶粒组成,晶粒度在0.1~10um之间。

  广泛应用的TCVD技术如金属有机化学气相沉积、氯化物化学气相沉积、氢化物化学气相沉积等均属于热化学气相沉积的范围

  热化学气相沉积(TCVD)是指利用高温激活化学反应进行气相生长的方法。广泛应用的TCVD技术如金属有机化学气相沉积、氯化物化学气相沉积、氢化物化学气相沉积等均属于热化学气相沉积的范围

  (2)有的金刚石薄膜直接由单晶或孪晶组成,有的薄膜由一定形状的聚晶组成,而聚晶又是由更微细的金刚石微粉组成。

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